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電瓷的坯釉中間層
一、中間層的定義與本質特征
中間層是指在釉與坯體界面處,通過高溫燒成時兩者的組分相互擴散、溶解與反應,形成的一層成分和結構介于釉層與坯體之間的過渡區域。其厚度通常為幾微米到幾十微米,具體取決于坯釉的化學組成、燒成溫度、保溫時間及釉層厚度等因素。
中間層的本質是坯釉界面的 “緩沖帶”,兼具釉層的玻璃態特征與坯體的結晶態特征,或形成新的晶相(如莫來石、鈣長石等)。它并非獨立的物理層,而是成分連續變化的梯度區域,其存在使釉與坯體之間的結合從單純的機械附著轉化為化學結合與物理互鎖的復合體系,顯著提升界面結合強度。
二、中間層的形成機制
中間層的形成是一個復雜的物理化學過程,主要包括以下三個階段:
1. 釉料熔融與組分擴散
在燒成溫度下,釉料率先熔融形成玻璃態熔體,其中低熔點組分(如堿金屬氧化物 K?O、Na?O,堿土金屬氧化物 CaO、MgO 等)形成流動性較好的介質,促使釉與坯體界面處的離子擴散。坯體中的 Al³?、Si??、Ca²?等陽離子向釉層遷移,釉中的 Na?、K?等陽離子則向坯體滲透,形成雙向擴散流。
2. 坯體組分的溶解與釉料的滲透
坯體表面的礦物(如長石、黏土分解產物)在高溫釉熔體中發生溶解,釋放出 Al?O?、SiO?等成分,使釉層的黏度和組成發生變化;同時,釉熔體通過坯體表面的孔隙或微裂紋滲透到坯體淺層,形成機械嵌合結構(如 “釉釘”),增強界面的機械結合力。
3. 化學反應與新相生成
當坯釉的化學組成具有一定相容性時,界面處可能發生化學反應,生成新的晶相或玻璃相。例如,高鋁坯體與含 CaO 的釉料在界面處可能形成鈣長石(CaO?Al?O??2SiO?)晶體,含長石的坯體與石英釉料可能生成莫來石(3Al?O??2SiO?)晶須。這些新相的存在不僅強化界面結合,還能調整中間層的熱膨脹系數,減少界面應力。
三、中間層的組成與結構特征
1. 化學組成的梯度分布
中間層的成分從坯體側到釉層側呈現連續變化:
坯體側:以坯體的主成分(如 Al?O?、SiO?)為主,含少量釉料中的助熔劑(如 Na?O、K?O);
釉層側:以釉料的主成分(如 SiO?、助熔劑氧化物)為主,含少量坯體中的 Al?O?、Fe?O?等雜質;
中間區域:形成富含 Al?O?-SiO?-CaO(或其他助熔劑)的復合體系,可能含有未完全溶解的坯體礦物顆粒或新生成的晶相。
2. 微觀結構的過渡性
中間層的結構隨坯釉性質不同呈現兩種典型形態:
玻璃態中間層:當坯釉化學相容性高(如高硅坯體配高硅釉),界面以擴散為主,未形成明顯晶相,中間層為玻璃態,結構均勻,厚度較薄(5~10μm);
結晶態中間層:當坯釉中含有易成晶組分(如 Al?O?含量較高的坯體與鈣長石釉),界面處生成針狀、柱狀晶體(如莫來石),形成 “晶橋” 連接坯釉,厚度較厚(20~50μm),機械強度更高。
3. 物相組成的復雜性
中間層可能包含以下物相:
未完全溶解的坯體殘余礦物(如石英、長石碎屑);
高溫反應生成的新晶相(莫來石、鈣長石、硅灰石等);
富助熔劑的玻璃相(低黏度區域,利于離子擴散);
氣隙或微裂紋(若坯釉熱膨脹系數差異過大,冷卻時產生應力集中)。
四、中間層的物理化學特性
1. 熱膨脹系數的緩沖作用
中間層的熱膨脹系數(CTE)介于坯體與釉層之間,是界面應力調控的核心因素。理想情況下,中間層的 CTE 應滿足:α 坯<α 中間層<α 釉,或通過成分調整使三者的 CTE 接近,以減少冷卻過程中因收縮差異產生的應力(壓應力或張應力)。若中間層 CTE 與坯釉差異過大,可能導致釉面開裂(釉層張應力過大)或剝落(界面結合力不足)。
2. 機械性能的界面強化
中間層通過以下方式提升界面結合強度:
機械互鎖:釉熔體滲入坯體孔隙形成 “釉釘”,增加界面接觸面積;
化學結合:新晶相的生成(如莫來石晶須)形成化學鍵連接;
應力均化:梯度結構分散外部載荷,避免應力集中。
3. 電學性能的界面效應
在電瓷中,中間層的絕緣性能直接影響整體電學表現:
若中間層存在導電晶相(如含鐵礦物)或氣孔,可能降低絕緣電阻;
均勻玻璃態中間層可抑制漏電流,而結晶態中間層(如純莫來石相)則具有良好的絕緣性。
4. 耐腐蝕性的界面屏障
中間層的致密性與化學穩定性決定了電瓷的抗腐蝕能力:
富 SiO?的玻璃態中間層對酸腐蝕有較好抗性;
含 CaO、MgO 的結晶態中間層對堿腐蝕更穩定。
五、中間層對電瓷性能的影響
1. 正面影響 —— 理想中間層的作用
增強結合力:通過化學與機械結合,減少釉層剝落風險;
調節熱應力:緩沖坯釉 CTE 差異,提高抗熱震性(如從 200℃驟冷至 20℃不破裂);
優化電學性能:均勻致密的中間層可降低介質損耗,提高擊穿電壓;
改善耐候性:阻止外界侵蝕性介質(如酸雨、鹽霧)直接接觸坯體,延長使用壽命。
2. 負面影響 —— 不良中間層的危害
界面應力集中:若中間層過薄或 CTE 不匹配,冷卻時釉層可能產生裂紋(如 “驚釉”);
絕緣性能下降:中間層中的氣孔或導電相導致漏電流增大,甚至引發閃絡;
機械強度降低:過度溶解的坯體表面或過厚的中間層可能形成脆弱界面,降低抗折強度。
六、中間層的調控方法
為獲得理想的中間層,需從坯釉配方、工藝參數及表面處理三方面進行調控:
1. 坯釉化學組成的匹配
關鍵氧化物的控制:
SiO?/Al?O?比值:影響熔體黏度與結晶傾向,高 SiO?/Al?O?(如釉料中 SiO?>60%)利于形成玻璃態中間層;
助熔劑氧化物(RO、R?O):適量 Na?O、K?O 降低釉熔點,促進擴散;CaO、MgO 提高中間層硬度與化學穩定性;
雜質控制:Fe?O?、TiO?等雜質可能導致中間層著色或生成不良晶相,需限制含量(電瓷釉中 Fe?O?<1%)。
坯釉酸堿性匹配:酸性坯體(高 SiO?)配酸性釉,堿性坯體(高 CaO)配堿性釉,避免界面過度反應。
2. 燒成工藝的優化
溫度曲線:高溫階段(1200~1400℃)需保證釉料充分熔融,同時避免坯體過度溶解(如長石質坯體燒成溫度不超過 1350℃);
保溫時間:適當延長保溫時間(30~60 分鐘)促進組分擴散,但過長會導致中間層過厚,增加應力;
冷卻速率:快速冷卻(>50℃/min)可能導致中間層結構不均,緩慢冷卻(<30℃/min)利于應力釋放。
3. 坯體表面處理與釉層控制
坯體表面粗糙度:適度粗化(如施釉前噴砂處理)增加機械互鎖面積,但過度粗糙會導致釉層厚度不均;
釉層厚度:電瓷釉厚度通常控制在 0.1~0.3mm,過薄易露坯,過厚可能導致中間層應力集中;
釉料懸浮性與潤濕性:通過添加黏土、CMC 等助劑提高釉料附著性,避免燒成時釉層流散導致中間層不均勻。
4. 特殊技術手段
復合釉層:采用底釉與面釉雙層結構,底釉側重與坯體結合(形成強中間層),面釉側重表面性能(如絕緣、耐磨);
晶核劑添加:在釉料中加入 TiO?、ZrO?等晶核劑,誘導中間層生成均勻分布的微小晶體,增強界面結合;
納米技術應用:通過納米顆粒(如 Al?O?、SiO?)改性釉料,提高中間層的致密度與抗熱震性。
中間層作為釉與坯體的 “橋梁”,其形成與調控是電瓷制造的核心技術之一。通過精準匹配坯釉組成、優化燒成工藝及控制界面反應,可實現中間層的成分梯度化、結構均勻化與性能最優化,從而提升電瓷的綜合性能。隨著高壓、超高壓電瓷對可靠性要求的提高,中間層的研究將更注重納米結構設計、多尺度界面耦合及服役環境下的耐久性,為電瓷材料的創新提供理論支撐。
坯釉中間層